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熱絲CVD金剛石薄膜制備及碳納米管形核作用的研究

時間:2023-04-29 10:02:06 數理化學論文 我要投稿
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熱絲CVD金剛石薄膜制備及碳納米管形核作用的研究

利用熱絲化學氣相沉積法(HF-CVD)進行了金剛石薄膜制備和碳納米管形核作用的研究.獲得了制備金剛石薄膜的優化工藝參數.利用碳納米管作為形核前驅獲得了高質量的金剛石薄膜,其沉積速率可達2.5 μm/h,晶粒生長完美,而且沒有出現聚晶現象.研究了碳納米管涂料質量對薄膜沉積特性的影響,并對其機理進行了初步探討.

熱絲CVD金剛石薄膜制備及碳納米管形核作用的研究

作 者: 侯亞奇 莊大明 張弓 吳敏生 劉家浚   作者單位: 清華大學機械工程系,北京,100084  刊 名: 真空科學與技術學報  ISTIC EI PKU 英文刊名: VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY  年,卷(期): 2002 22(1)  分類號: O484.1  關鍵詞: 金剛石薄膜   熱絲化學氣相沉積   碳納米管   形核前驅  

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